廢（fèi）氣處理設備有哪些分類？

廢氣處理設備，主要是指運用不同工藝技術，通過回收或去除、減少排放尾氣的有害（hài）成分，達到保護環境、淨化空（kōng）氣的一種環保設（shè）備，讓天天综合永久免费视频的（de）環境不受到（dào）汙（wū）染。

一、吸收設備

吸收法（fǎ）采用低揮發或不揮發性溶劑對VOCs進行吸收，再利用VOCs和（hé）吸收劑物理（lǐ）性質的差異進行分離。

含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸（chù），淨化後的氣體由（yóu）塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器後，進入汽提塔頂部，在溫度高於吸收溫（wēn）度或壓（yā）力低於吸收壓力的（de）條件下解吸（xī）。解吸後的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝後（hòu）回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離（lí）器後以（yǐ）較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工（gōng）藝適合於VOCs濃度較（jiào）高、溫度較低的（de）氣體淨化，其他情況下需（xū）要作相應的工藝調整。

二、吸附設備

在用多孔性固（gù）體物質處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表麵並濃集其上，此現（xiàn）象（xiàng）稱為吸附。吸附處理廢氣時（shí），吸附的對象是氣態汙染物（wù），氣固吸附。被吸附的氣體組（zǔ）分（fèn）稱為吸附質，多孔固（gù）體（tǐ）物質稱為吸（xī）附劑。

固體表麵吸附了吸附質後，一部被吸附的吸附質可從吸附劑表麵脫離，此現附。而當（dāng）吸附進行一段時間後，由於表麵吸附質的濃（nóng）集，使其（qí）吸附能力明顯下降而吸附淨化的要求（qiú），此時（shí）需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附，以協的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因（yīn）此（cǐ）在實際吸附工程中，正是（shì）利用吸（xī）附（fù）一（yī）再生一再吸附的循環過程，達到除去（qù）廢氣中汙染物質並回收（shōu）廢氣中有用組分（fèn）。

三、淨化設備

燃燒法用於處理高濃度（dù）Voc與有惡臭的化合物很有（yǒu）效，其原理是（shì）用過量的（de）空氣使（shǐ）這（zhè）些雜質（zhì）燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒（shāo）後氣體進一步處理。

四、治理設備

等離（lí）子體就是處於電離狀態（tài）的氣體，其英文名稱（chēng）是plasma，它是由（yóu）美國科學（xué） muir，於1927年在（zài）研究低氣壓下汞蒸（zhēng）氣中放電（diàn）現象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自由基（jī）等組成，但電子和（hé）正離（lí）子的電荷數必須（xū）體表現出電中性，這就是“等（děng）離子體（tǐ）”的（de）含義。等離子體具有導電和受電磁（cí）影響的許多方麵與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質的第四種狀態（tài）。根據狀態（tài）、溫度和離子密度，等離子體（tǐ）通常可以分（fèn）為高溫等離子體和（hé）低溫等離子體（tǐ）（包子體（tǐ）和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同係處於熱力學平衡狀態，它主要應用在受控熱（rè）核反應研究方麵。而低溫等離子體則學非平衡狀態，各種粒子溫度並不（bú）相同。其中電子溫（wēn）度（dù）( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子（zǐ）體屬於低溫等離（lí）子體。

截至2013年，對低（dī）溫（wēn）等離子體的作用機理研究認為是粒子非彈（dàn）性碰撞的結果。低溫等離富（fù）含電子、離子、自由基和激發態分子，其中高能電子與氣體分子（原（yuán）子）發生撞，將（jiāng）能量轉換成（chéng）基態分子（原子）的內能，發生激發、離解（jiě）和電離等一係列過秸處於活化狀態。一方麵打開了氣體分子鍵，生成一些單分子和固體微粒；另（lìng）一力生．OH、H2O2．等（děng）自由基和氧化性極強的O3，在這一（yī）過程中高能電子起決定性作（zuò）用（yòng），離子的熱運（yùn）動隻有（yǒu）副作用（yòng）。常壓下，氣體放電產（chǎn）生的高度非平衡等離子體中電子溫層（céng）氏度）遠高於氣體溫度（室溫（wēn）100℃左右）。在非平衡（héng）等離子體中（zhōng）可能發（fā）生各種類型的（de）化學反（fǎn）應，主要決（jué）定於電子的平均能量、電子密（mì）度、氣體溫度、有害氣體分子濃度（dù）和≥氣體成分。這為（wéi）一些需要很大活化能的反應如（rú）大氣（qì）中難降解汙染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高（gāo）流速（sù）、大風量的含揮發性有機汙染物和含硫類汙染物等進行處（chù）理。

常見的產生等離子體的方法是氣體放電，所謂（wèi）氣體放電是指通（tōng）過某種機製使一電子從氣體原子或分子中電離出來（lái），形成的氣體媒質稱為電離氣體，如果電離氣由外電場產生並形成傳導電流，這種（zhǒng）現（xiàn）象稱為氣體放電。根據放電產（chǎn）生的機理、氣體的壓j源性質以（yǐ）及電極的幾何形狀、氣體（tǐ）放電等離子體（tǐ）主要分為以下幾種形式（shì）：①輝光放電；③介質阻擋放電；④射頻放電；⑤微波放電（diàn）。無論哪一種形式產（chǎn）生的等離子（zǐ）體，都需要高壓放電。容易打火產生危險。由於對諸如氣（qì）態汙染物的治理，一般要（yào）求在（zài）常壓下進行。

五、光催化和生物淨化設（shè）備

光催（cuī）化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中（zhōng）有機汙染物完全氧化成無毒無害（hài）的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的（de）溫度下才可將汙（wū）染物摧毀，即（jí）使用常規的催化（huà）、氧化方（fāng）法亦需要幾百度的高溫。

從理論上講，隻要（yào）半導體吸收的光（guāng）能不小於其帶隙能，就足以激發產生電子和（hé）空穴，該半（bàn）導體就（jiù）有（yǒu）可能用作光催化劑。常見的單（dān）一（yī）化合（hé）物光催化劑（jì）多為金屬氧化物或（huò）硫化（huà）物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根（gēn）據需要選用，如CdS半導體帶隙能（néng）較（jiào）小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但（dàn）它（tā）容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言（yán），Ti02的綜合性能較（jiào）好，是最廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。